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Plasma Science & Technology

等离子科技 SCIE

Plasma Science & Technology

约4.5个月 审稿时间

3区中科院分区

Q3JCR分区

1.6影响因子

1009-0630

2058-6272

PLASMA SCI TECHNOL

PEOPLES R CHINA

物理 - 物理:流体与等离子体

1999

27

Bimonthly

English

199

0.11...

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期刊简介

等离子科技(Plasma Science & Technology)是一本由IOP Publishing Ltd.出版的一本物理-物理:流体与等离子体学术刊物,主要报道物理-物理:流体与等离子体相关领域研究成果与实践。本刊已入选来源期刊,该刊创刊于1999年,出版周期Bimonthly。2021-2022年最新版WOS分区等级:Q3,2023年发布的影响因子为1.6,CiteScore指数3.1,SJR指数0.401。本刊非开放获取期刊。

PST 及时报道这一多学科和跨学科领域中重要、新颖、有益和发人深省的进展,助力等离子体科学和技术的发展。

中国科学院等离子体物理研究所和中国理论与应用力学学会出版物。

中科院分区信息

等离子科技2023年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 3区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 4区
等离子科技2022年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 3区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 3区
等离子科技2021年12月旧的升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 2区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 2区
等离子科技2021年12月基础版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理 2区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 2区
等离子科技2021年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 2区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 2区
等离子科技2020年12月旧的升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 2区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 2区
名词解释:

中科院JCR期刊分区(又称分区表、分区数据)是中国科学院文献情报中心世界科学前沿分析中心的科学研究成果。在中科院期刊分区表中,主要参考3年平均IF作为学术影响力,最终每个分区的期刊累积学术影响力是相同的,各区的期刊数量由高到底呈金字塔式分布。

JCR分区信息

Plasma Science & Technology(2023-2024年最新版数据)
按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 26 / 40
36.3%
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 19 / 40
53.75%
名词解释:

汤森路透每年出版一本《期刊引用报告》(Journal Citation Reports,简称JCR)。JCR对86000多种SCI期刊的影响因子(Impact Factor)等指数加以统计。JCR将收录期刊分为176个不同学科类别在JCR的Journal Ranking中,主要参考当年IF,最终每个分区的期刊数量是均分的。

期刊数据统计

1、Cite Score(2024年最新版)
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics Q3 242 / 434
44%
名词解释:

CiteScore:该指标由Elsevier于2016年提出,指期刊发表的单篇文章平均被引用次数。CiteScorer的计算方式是:例如,某期刊2022年CiteScore的计算方法是该期刊在2019年、2020年和2021年发表的文章在2022年获得的被引次数,除以该期刊2019年、2020年和2021发表并收录于Scopus中的文章数量总和。

2、综合数据
3、本刊综合数据对比及走势

文章引用数据

文章名称 引用次数
  • Hybrid electric discharge plasma technol...

    16
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  • Deposition of SiCxHyOz thin film on epox...

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    8
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    7
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    7
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    7

期刊被引用数据

期刊名称 引用次数
  • PLASMA SCI TECHNOL

    312
  • IEEE T PLASMA SCI

    125
  • PHYS PLASMAS

    93
  • NUCL FUSION

    76
  • FUSION ENG DES

    63
  • AIP ADV

    51
  • J PHYS D APPL PHYS

    43
  • PLASMA CHEM PLASMA P

    37
  • J ANAL ATOM SPECTROM

    35
  • REV SCI INSTRUM

    28

期刊引用数据

期刊名称 引用次数
  • PHYS PLASMAS

    384
  • PLASMA SCI TECHNOL

    312
  • J PHYS D APPL PHYS

    243
  • SPECTROCHIM ACTA B

    241
  • NUCL FUSION

    204
  • IEEE T PLASMA SCI

    172
  • PLASMA SOURCES SCI T

    148
  • APPL PHYS LETT

    126
  • PHYS REV LETT

    123
  • J APPL PHYS

    120

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