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Plasma Sources Science & Technology

等离子源科技 SCIE

Plasma Sources Science & Technology

约6.0个月 审稿时间

2区中科院分区

Q1JCR分区

3.3影响因子

0963-0252

1361-6595

PLASMA SOURCES SCI T

ENGLAND

物理 - 物理:流体与等离子体

1992

94

Bimonthly

English

242

0.31...

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期刊简介

等离子源科技(Plasma Sources Science & Technology)是一本由IOP Publishing Ltd.出版的一本物理-物理:流体与等离子体学术刊物,主要报道物理-物理:流体与等离子体相关领域研究成果与实践。本刊已入选来源期刊,该刊创刊于1992年,出版周期Bimonthly。2021-2022年最新版WOS分区等级:Q1,2023年发布的影响因子为3.3,CiteScore指数7.1,SJR指数0.771。本刊非开放获取期刊。

等离子体源科学与技术 (PSST) 报告了在各种气压和等离子体密度范围内运行的低温等离子体和电离气体,这些气体具有不同的电离程度。PSST 的重点是这些等离子体的基础科学、它们的来源以及由它们引发或维持的物理和化学过程,这些过程通过理论、计算或实验技术阐明。PSST 还报告了研究低温等离子体所需的新的实验或理论得出的基础数据(例如截面、传输系数)。与这些等离子体的技术和应用相关的报告应与等离子体状态下发生的科学和基本过程紧密相关。

中科院分区信息

等离子源科技2023年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 2区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 1区
等离子源科技2022年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 1区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 1区
等离子源科技2021年12月旧的升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 2区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 1区
等离子源科技2021年12月基础版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理 2区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 1区
等离子源科技2021年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 2区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 1区
等离子源科技2020年12月旧的升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 2区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 2区
名词解释:

中科院JCR期刊分区(又称分区表、分区数据)是中国科学院文献情报中心世界科学前沿分析中心的科学研究成果。在中科院期刊分区表中,主要参考3年平均IF作为学术影响力,最终每个分区的期刊累积学术影响力是相同的,各区的期刊数量由高到底呈金字塔式分布。

JCR分区信息

Plasma Sources Science & Technology(2023-2024年最新版数据)
按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q1 6 / 40
86.3%
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q1 6 / 40
86.25%
名词解释:

汤森路透每年出版一本《期刊引用报告》(Journal Citation Reports,简称JCR)。JCR对86000多种SCI期刊的影响因子(Impact Factor)等指数加以统计。JCR将收录期刊分为176个不同学科类别在JCR的Journal Ranking中,主要参考当年IF,最终每个分区的期刊数量是均分的。

期刊数据统计

1、Cite Score(2024年最新版)
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics Q1 74 / 434
83%
名词解释:

CiteScore:该指标由Elsevier于2016年提出,指期刊发表的单篇文章平均被引用次数。CiteScorer的计算方式是:例如,某期刊2022年CiteScore的计算方法是该期刊在2019年、2020年和2021年发表的文章在2022年获得的被引次数,除以该期刊2019年、2020年和2021发表并收录于Scopus中的文章数量总和。

2、综合数据
3、本刊综合数据对比及走势
Created with Highcharts 4.2.6中科院JCR分区32222212212中科院JCR分区2012年2013年2014年2015年2016年2017年2018年2019年2020年2021年2022年0.511.522.533.5
Created with Highcharts 4.2.6引文指标发文量1.521.491.341.311.261.221.17187220190193258232299273295242引文指标发文量2017年2018年2019年2020年2021年2022年2023年7891.11.21.31.41.51.6150200250300350400

期刊被引用数据

期刊名称 引用次数
  • PLASMA SOURCES SCI T

    1576
  • J PHYS D APPL PHYS

    745
  • PHYS PLASMAS

    733
  • IEEE T PLASMA SCI

    427
  • J APPL PHYS

    370
  • PLASMA CHEM PLASMA P

    186
  • JPN J APPL PHYS

    171
  • PLASMA PROCESS POLYM

    165
  • PLASMA SCI TECHNOL

    148
  • VACUUM

    110

期刊引用数据

期刊名称 引用次数
  • PLASMA SOURCES SCI T

    1576
  • J PHYS D APPL PHYS

    1276
  • J APPL PHYS

    702
  • PHYS PLASMAS

    595
  • APPL PHYS LETT

    335
  • IEEE T PLASMA SCI

    296
  • J CHEM PHYS

    236
  • PHYS REV A

    227
  • PHYS REV LETT

    189
  • PHYS REV E

    167

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